Lodaer Img

Лаборатория по тънки филми

Лаборатория по тънки филми

Комбинирана система за магнетронно разпрашаване и термично изпарение на тънки слоеве, снабдена с три магнетрона (единия от които e с радиочестотно захранване) и термичен изпарител. Възможност за отлагане както на проводящи, така и на диелектрични слоеве, и също така възможност за съотлагане от два източника едновременно.

Описание на дейностите

  • Отлагане на нано- и микроразмерни тънки слоеве от метали, оксиди, полупроводници и непроводящи материали, чрез постояннотоково (DC) и радиочестотно (RF) единично (самостоятелно) и съвместно разпрашване
  • Вакуумно-термично изпарение от един или повече източници
  • Почистване на подложките преди началото на процеса
  • Възможност за нанасяне на филми върху различни видове твърди (метални, стъклени, силициеви) и огъващи се (полимерни) подложки

Апаратура

Комбинирана система за магнетронно разпрашаване и вакуумно-термично отлагане на слоеве, модел KES 500 TC

Работната камера на системата има три магнетронни катода с диаметър 5 см в конфокална геометрия, с конфигурация „sputter up“. Катодите са с водно охлаждане и всеки е снабден със специален пневматичен защитен екран за процеси преди разпрашването и специален екран за избягване на възможно кръстосано замърсяване. Системата е оборудвана с правотоково захранване, което може да бъде свързано към два от катодите чрез система, съставена от 2 DC превключвателя, и едно радиочестотно 13,56 MHz захранване, свързано директно към третия катод. Такава конфигурация позволява отлагането както на проводящи, така и на диелектрични слоеве (като CeO2, SiO2, Al2O3 и т.н.). Разстоянието мишена-подложка може да се променя от вътрешността на камерата. Вакуумът достиган от работната камера е по-висок от 5 x 10-7 мбар.

Държачът на пробата/анодът в камерата за обработка може да бъде зареден с проби с диаметър 5 см или квадратна проба с размери 5 см x 5 см и да се върти около ортогоналната си ос, така че да оптимизира колкото е възможно повече равномерността на отлагането. В същото време анодът може да бъде нагряван до 300°C чрез система за нагряване на подложката. Системата притежава второ радиочестотно захранване, свързано към държача на пробата.

Вакуумно-термичното изпарение се извършва от термичен изпарител, монтиран в долната част на камерата, с източници на термично изпарение с електрическо захранване с максимален ток от 600 A.

Галерия